上海皓越与您分享快速退火炉的基本资料

　　快速退火炉操作便捷，电热元件采用红外灯管，升温速度快，节省时间，滑动法兰使装卸样品过程简化，方便操作，可快速得到实验结果，取消了反复的法兰安装过程，减少了炉管因安装造成的损坏。其设备一般都是以碘钨灯管为发热元件，升温速度极快，采用S型热电偶测温并采用先进的模糊PID控制，具有很高的控温精度<±5℃>，快速退火炉 具有真空装置，可在多种气氛下工作。大大提高了其使用范围。标准配件需：高温手套1付，热电偶1根，石英管1根，真空法兰1套。可选配件：氧化铝坩埚，石 英坩埚，真空泵。

　　快速退火炉操作便捷，电热元件采用红外灯管，升温速度快，节省时间，滑动法兰使装卸样品过程简化，方便操作，可快速得到实验结果，取消了反复的法兰安装过程，减少了炉管因安装造成的损坏。

　　产品用途：

　　此款CVD生长系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。

　　产品组成配置：

　　1、1200度开启式真空管式炉；

　　2、多路质量流量控制系统；

　　3、真空系统（可选配中真空或高真空）。

　　产品特点：

　　1 控制电路选用模糊PID程控技术，该技术控温精度高，热惯性小，温度不过冲，性能可靠，操作简单；

　　2 气路快速连接法兰结构采用本公司*的知识产权设计，提高操作便捷性；

　　3 中真空系统具有真空度上下限自动控制功能，高真空系统采用高压强，耐冲击分子泵。