第四代真空气氛炉又叫无氧退火炉、真空气氛烧结炉等,可分为管式和箱式两种结构。
原理:
第四代真空气氛炉是一种采用物体在通入一定气体的炉膛内进行烧结的方法的气氛炉,按不同的温度、不同的气氛,可采用不同的加热元件,利用可编程序进行温度控制,多达40段加热保温曲线。广泛应用于各实验室、陶瓷、冶金、电子、耐火材料、新材料开发、特种材料、玻璃、化工、机械、建材等领域的生产工矿企业及科研单位的前期实验。
它优势特点在于:
1、能用于气氛炉工作过程中不宜用还原性或惰性气体作保护气氛的烧结。
2、能够利于收缩和改善合金的组织,优化相对固相的润湿性。
3、气氛炉真空环境烧结过程减少了气氛(水、氧、氮)中有害成分对产品的不良影响。
4、真空烧结有助于硅、铝、镁、钙等杂质或其氧化物的排除,起到净化材料的作用。
5、设备内的真空环境有利于排除吸附气体、孔隙中的残留气体以及反应气体产物,真空烧结的硬质合金的孔隙度要明显低于在氢气中烧结的硬质合金。
6、设备在真空环境的烧结温度比气体保护烧结的温度要低一些,所以在烧结硬质合金时烧结温度可降低100~150℃,这有利于降低能耗和防止晶粒长大。
使用注意事项:
1、KCN不可与酸类混置,因两者可产生剧毒之KCN气体;
2、除了做实验外,不要停留在高温炉管区;
3、一旦发现有妨碍安全之事物时,请立即通知有关人员;
4、请节约纯水用量;
5、处理HF时,请戴手套,如不小心碰到HF时,请立刻冲水,用葡萄酸钙加2%之水,揉擦伤处15分钟;
6、长短推杆之前端,在还没使用到时,请朝上以免污染;
7、石英玻璃制品请小心使用,以免破裂,引起严重割伤;
8、避免吸入从炉子或处理槽所冒出之各种气体;
9、破晶片、滤纸、棉花棒等,请勿掉入清洗槽的底部排水孔,以免因排水不良造成地板渍水。