13311665350
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产品简介
气压烧结炉主要供企业在高气压保护气氛条件下对陶瓷（如碳化硅、氧化锆、氧化铝、氮化硅等）及金属材料（如硬质合金）等进行热等静压烧结处理，同时也适用大专院校、科研单位进行中试批量生产用。适用于氮化硅陶瓷球、陶瓷刀具等材料在高压氮气或氩气气氛内进行烧结。有利于增加材料的烧结密度，提高材料的机械性能。
设备简介
气压烧结炉主要供企业在高气压保护气氛条件下对陶瓷（如碳化硅、氧化锆、氧化铝、氮化硅等）及金属材料（如硬质合金）等进行热等静压烧结处理，同时也适用大专院校、科研单位进行中试批量生产用。适用于氮化硅陶瓷球、陶瓷刀具等材料在高压氮气或氩气气氛内进行烧结。有利于增加材料的烧结密度，提高材料的机械性能。
技术特点
立式设计，使装卸与维修工作更为简便，整个工艺过程自动控制；
温度均匀性好：采用特殊的炉胆结构和加热器布置，炉温均匀性好；
脱脂效果好：采用特殊结构脱脂箱，密封效果好，脱脂对炉内元件无污染；
功能多：具备真空烧结、压力烧结、负压脱脂等功能；
设计优化好：加热室热场经热态模拟计算，具有非常高的温度均匀性、配置的加热元件及隔热层采用模块化优化设计；
安全性高：具有超温超压等故障报警，机械式自动压力保护，动作互锁等功能，设备安全性高；
7.设备可选择配置脱脂系统，实现陶瓷制品的脱脂烧结一次性处理。
产品型号
编号 |
产品型号 |
加热材质 |
设备形式 |
取料方式 |
有效工作区（mm） |
最高温度（℃） |
气体压力（MPa） |
极限真空（Pa） |
适用工艺 |
G3VGR16/20 |
PVSgr-30/50-T |
石墨 |
立式 |
下取料 |
Φ300×500 |
1600/2000 |
10 |
10Pa |
烧结/分压烧结/脱脂/氢气 |
G5VGR16/20 |
PVSgr-50/80-T |
石墨 |
立式 |
下取料 |
Φ500×800 |
1600/2000 |
6/10 |
10Pa |
烧结/分压烧结/脱脂/氢气 |
G7VGR16/20 |
PVSgr-70/250-T |
石墨 |
立式 |
上下取料 |
Φ700×2500 |
1600/2000 |
6/10 |
10Pa |
烧结/分压烧结/脱脂/氢气 |
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