H2W23-真空氢气炉主要是用于半导体材料、纳米材料、光线材料、铜粉,钴粉,镍粉,钨粉,钼粉,钨粉,等在各种气体保护下的各种复杂工艺,使物料与氢气充分混合,气体保护降温,具有多种工艺气体的流量控制。是科研、教学、生产、新材料研发的重要设备,广泛适用于化工、电子、冶金、能源等行业领域。
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RELATED ARTICLESH2W23-真空氢气炉是一款由 生产的实验真空炉,它使用金属钨带作为发热元件,具有全金属热场结构。该设备以其高洁净度、低污染、高真空度等特点,广泛应用于电容、钽材等金属及难熔金属合金、陶瓷材料等的真空或保护气氛高温烧结,以及金属材料的高温热处理和贵金属材料的除气处理。
一、设备基本原理:
H2W23-真空氢气炉是用金属钨带作发热元件及纯金属隔热屏的全金属热场真空电阻炉,具有高洁净度、污染小、高真空度等优点,主要应用于电容、钽材等金属及由难熔金属组成的合金材料、陶瓷材料等在真空或保护气氛中高温烧结,也可以供金属材料在高真空条件下的高温热处理或贵金属材料的除气处理。
二、应用:
H2W23-真空氢气炉主要是用于半导体材料、纳米材料、光线材料、铜粉,钴粉,镍粉,钨粉,钼粉,钨粉,等在各种气体保护下的各种复杂工艺,使物料与氢气充分混合,气体保护降温,具有多种工艺气体的流量控制。是科研、教学、生产、新材料研发的重要设备,广泛适用于化工、电子、冶金、能源等行业领域。
三、H2W23-真空氢气炉展示图:
四、设备特点:
1.设备采用卧式、侧开门结构:装、卸物料精度高,操作方便;
2.设备升温快:升温速率1~15℃/分钟(≤1600℃),升温速率1~10℃/分钟(>1600℃);
3.温度均匀性好:平均温度均匀性为±5℃(5点测温,恒温区1000℃保温1h后检测);
4.安全性能好:采用HMI+PLC+PID程序控温,安全可靠;
5.炉门锁紧为齿啮快卸法兰,操作方便安全可靠。
五、H2W23-真空氢气炉的主要技术参数:
1 | 编号 | H2W23 |
2 | 产品型号 | VHHw-20/20/30-2300 |
3 | 最高设计温度(℃) | 2300 |
4 | 加热元件 | 钨带 |
5 | 加热功率(Kw) | 50 |
6 | 冷态极限真空度(Pa) | 6.7x10-3Pa(空炉、冷态、经净化) |
7 | 测温元件 | 钨铼热电偶+红外测温仪 |
8 | 升温速率 | 1~20℃/min |
9 | 温度均匀性 | ±5℃(5点测温,恒温区1000℃保温1h后检测) |
10 | 炉膛尺寸(mm) | 200x200x300(WxHxD) |
11 | 可充气氛 | 氢气/氮氢混合气 |
12 | 设备外形尺寸(mm) | 1425x1550x1850mm(DxWxH) |
六、设备安全操作规程:
1.前期准备:选择安全的使用场所,避免在密闭空间使用。检查炉子连接管、气体瓶阀门等部位是否松动或磨损,确保炉子无明显故障、漏气等情况。
2.点火操作:按照安全操作规程进行点火,确保氢气进入炉膛后火焰保持稳定。
3.使用注意事项:禁止在炉子周围堆放易燃物品。若炉子出现异常情况,应及时关闭调节阀门,并向专业人员寻求帮助。使用完毕后应关闭炉子,并关闭氢气瓶阀门。
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